A comparative study of Cr2O3 thin films obtained by MOCVD using three different precursors (Articolo in rivista)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Articolo in rivista (Classe)

Label

• A comparative study of Cr2O3 thin films obtained by MOCVD using three different precursors (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2005-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1002/cvde.200406360 (literal)

Alternative label

• Carta G.; Natali M.; Rossetto G.; Zanella P.; Salmaso G.; Restello S.; Rigato V.; Kaciulis S.; Mezzi A. (2005)
  A comparative study of Cr2O3 thin films obtained by MOCVD using three different precursors
  in Chemical vapor deposition (Print)
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Carta G.; Natali M.; Rossetto G.; Zanella P.; Salmaso G.; Restello S.; Rigato V.; Kaciulis S.; Mezzi A. (literal)

Pagina inizio

• 375 (literal)

Pagina fine

• 380 (literal)

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• 11 (literal)

Rivista

• Chemical vapor deposition (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#pagineTotali

• 6 (literal)

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• 8-9 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)
• Scopu (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• 1-4 : CNR - ICIS - Padova 5 -7 : INFN , Laboratori Nazionali Legnaro - Padova 8-9: CNR - ISMN - Monterotondo Stazione - Roma (literal)

Titolo

• A comparative study of Cr2O3 thin films obtained by MOCVD using three different precursors (literal)

Abstract

• Thin films of chromia (Cr2O3) for anti-wear protection were grown by metal-organic (MO)CVD on AISI 304 stainless steel, soda-lime glass, and (001) silicon substrates. The structural, morphological, and chemical compositions were compared for films grown by using three different, commercial, organochromium compounds; Cr(CO)6 (1), Cr(III) (hexafluoroacetylacetonate) (2), and tris(2,2,6,6-tetra-methyl-3,5-heptanedionato) chromium (III) (3). The depositions were performed using a hot-wall reactor at 500 °C, under 3 torr, using N2 as the carrier gas and O2 mixed with water vapor as the reactant gas. The films were analyzed by X-ray diffraction (XRD), atomic force microscopy (AFM), Rutherford backscattering (RBS), nuclear reaction analysis (NRA), elastic recoil detection (ERD), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), and Fourier-transform infrared (FTIR) spectroscopy. The films grown with all three precursors on all three substrates were crystalline with hexagonal Cr2O3 eskalonite structure. FTIR and XPS measurements confirmed the XRD results, showing IR absorption bands characteristic of Cr2O3 and an oxidation state +3 of chromium. The highest growth rate was obtained with precursor (1) (20 nm min-1). Films grown with (1) on stainless steel were analyzed by nanoindentation measurements and scratch test to determine the hardness and the film adhesion. (literal)

Prodotto di

• Sintesi e crescita di film e superfici nanostrutturate (PM.P05.004.002) (Modulo)
• Dispositivi per spintronica a base di strutture ibride organico-inorganico e semiconduttori magnetici diluiti (PM.P04.006.001) (Modulo)
• Istituto per lo studio dei materiali nanostrutturati (ISMN) (Istituto)
• Istituto di chimica inorganica e delle superfici (ICIS) (Istituto)

Autore CNR

• PIERINO ZANELLA (Unità di personale interno)
• SAULIUS KACIULIS (Persona)
• ALESSIO MEZZI (Persona)
• GILBERTO LUCIO ROSSETTO (Persona)
• MARCO STEFANO NATALI (Unità di personale interno)
• GIOVANNI CARTA (Unità di personale interno)

Insieme di parole chiave

• Keywords of "A comparative study of Cr2O3 thin films obtained by MOCVD using three different precursors" (Insieme di parole chiave)

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Prodotto

• Istituto di chimica inorganica e delle superfici (ICIS) (Istituto)
• Istituto per lo studio dei materiali nanostrutturati (ISMN) (Istituto)
• Dispositivi per spintronica a base di strutture ibride organico-inorganico e semiconduttori magnetici diluiti (PM.P04.006.001) (Modulo)
• Sintesi e crescita di film e superfici nanostrutturate (PM.P05.004.002) (Modulo)

Autore CNR di

• GILBERTO LUCIO ROSSETTO (Persona)
• MARCO STEFANO NATALI (Unità di personale interno)
• GIOVANNI CARTA (Unità di personale interno)
• ALESSIO MEZZI (Persona)
• SAULIUS KACIULIS (Persona)
• PIERINO ZANELLA (Unità di personale interno)

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• Chemical vapor deposition (Rivista)