http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID169414
Anodic etching of NiTi in a low hazard neutral fluoride medium (Comunicazione a convegno)
- Type
- Label
- Anodic etching of NiTi in a low hazard neutral fluoride medium (Comunicazione a convegno) (literal)
- Anno
- 2010-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
- Alternative label
Cattarin S., Guerriero P., Musiani M., Tuissi A., Vázquez-Gómez L. (2010)
Anodic etching of NiTi in a low hazard neutral fluoride medium
in The 61st Meeting of the International Society of Electrochemistry (ISE), Nice (France), September 26th October 1st 2010, Nice (France)
(literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
- Cattarin S., Guerriero P., Musiani M., Tuissi A., Vázquez-Gómez L. (literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#note
- Program of the 61st Annual Meeting of ISE, page 6 (literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni
- 1. Istituto per lEnergetica e le Interfasi (IENI) CNR, Corso Stati Uniti 4, 35127 Padova, Italy
2. Istituto di Chimica Inorganica e delle Superfici (ICIS) - CNR, Corso Stati Uniti 4, 35127 Padova, Italy
3. Istituto per lEnergetica e le Interfasi (IENI) CNR, Unità di Lecco, Corso Promessi Sposi 29, 23900 LECCO, Italy (literal)
- Titolo
- Anodic etching of NiTi in a low hazard neutral fluoride medium (literal)
- Prodotto di
- Autore CNR
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