Hardness of zirconium diboride films deposited on titanium substrates (Articolo in rivista)

Type

• Articolo in rivista (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Hardness of zirconium diboride films deposited on titanium substrates (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2008-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• Rau J.V., Ferro D., Falcone M.B., Generosi A., Rossi Albertini V., Latini A., Teghil R., Barinov S.M. (2008)
  Hardness of zirconium diboride films deposited on titanium substrates
  in Materials chemistry and physics (Print)
  (literal)

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• Rau J.V., Ferro D., Falcone M.B., Generosi A., Rossi Albertini V., Latini A., Teghil R., Barinov S.M. (literal)

Pagina inizio

• 504 (literal)

Pagina fine

• 509 (literal)

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• 112 (literal)

Rivista

• Materials chemistry and physics (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#note

• http://dx.doi.org/10.1016/j.matchemphys.2008.06.004 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• Istituto di Struttura della Materia, CNR, via del Fosso del Cavaliere 100, 00133 Rome, Italy Istituto per lo Studio dei Materiali Nanostrutturati, CNR, Piazzale Aldo Moro 5, 00185 Rome, Italy SAPIENZA Universitá di Roma, Dipartimento di Chimica, Piazzale Aldo Moro 5, 00185 Rome, Italy Universitá della Basilicata, Dipartimento di Chimica, via N. Sauro 85, 85100 Potenza, Italy Baikov Institute of Metallurgy and Materials Science, Russian Academy of Sciences, Leninskij Prospect 49, Moscow 119991, Russia (literal)

Titolo

• Hardness of zirconium diboride films deposited on titanium substrates (literal)

Abstract

• The study was aimed at the hardness determination of thin ZrB2 films produced on pure titanium substrate by pulsed laser deposition and electron beam deposition techniques. The former method allows the deposition of dense crystalline films, being textured preferentially along the (1 1 0) direction, whereas the electron beam deposition allows the production of compact X-ray amorphous films. The thickness of the films was about 200 and 500 nm, respectively. Vickers hardness values obtained by microindentation technique are close to those of bulk ZrB2 ceramics. Pulsed laser deposited ZrB2 films are harder ranging from 21 to 27 GPa than the electron beam deposited films ranging from 19 to 23 GPa. An increase in the substrate preheating temperature leads to a decrease in hardness value. (literal)

Prodotto di

• Institute of structure of matter (ISM) (Istituto)
• Aspetti chimico fisici dei processi fondamentali (PM.P05.005.001) (Modulo)
• Fotonica a raggi X (MD.P03.006.001) (Modulo)
• Istituto per lo studio dei materiali nanostrutturati (ISMN) (Istituto)

Autore CNR

• AMANDA GENEROSI (Persona)
• DANIELA FERRO (Unità di personale interno)
• DZHULIETTA RAU (Unità di personale esterno)
• VALERIO ROSSI ALBERTINI TIRANNI (Unità di personale interno)

Incoming links:

Autore CNR di

• VALERIO ROSSI ALBERTINI TIRANNI (Unità di personale interno)
• DZHULIETTA RAU (Unità di personale esterno)
• AMANDA GENEROSI (Persona)
• DANIELA FERRO (Unità di personale interno)

Prodotto

• Institute of structure of matter (ISM) (Istituto)
• Istituto per lo studio dei materiali nanostrutturati (ISMN) (Istituto)
• Fotonica a raggi X (MD.P03.006.001) (Modulo)
• Aspetti chimico fisici dei processi fondamentali (PM.P05.005.001) (Modulo)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Materials chemistry and physics (Rivista)