Ultra High Vacuum Cathodic Arc for High Quality Film deposition (Articolo in rivista)

Type

• Articolo in rivista (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Ultra High Vacuum Cathodic Arc for High Quality Film deposition (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2006-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• R. Russo, A. Cianchi, Y.H. Akhmadeev, L. Catani, J. Langner, J. Lorkiewicz, R. Polini, B. Ruggiero, M. Sadowski, S. Tazzari, N.N.Koval (2006)
  Ultra High Vacuum Cathodic Arc for High Quality Film deposition
  in Surface & coatings technology
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• R. Russo, A. Cianchi, Y.H. Akhmadeev, L. Catani, J. Langner, J. Lorkiewicz, R. Polini, B. Ruggiero, M. Sadowski, S. Tazzari, N.N.Koval (literal)

Pagina inizio

• 3987 (literal)

Pagina fine

• 3992 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 201 (literal)

Rivista

• Surface & coatings technology (Rivista)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• Istituto di cibernetica \"Edoardo Caianiello\" (literal)

Titolo

• Ultra High Vacuum Cathodic Arc for High Quality Film deposition (literal)

Prodotto di

• Fisica e Tecnologia dei Sistemi Coerenti (MD.P04.010.001) (Modulo)
• Istituto di cibernetica \"Edoardo Caianiello\" (ISASI) (Istituto)

Autore CNR

• BERARDO RUGGIERO (Persona)
• Roberto Russo (Unità di personale esterno)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di cibernetica \"Edoardo Caianiello\" (ISASI) (Istituto)
• Fisica e Tecnologia dei Sistemi Coerenti (MD.P04.010.001) (Modulo)

Autore CNR di

• BERARDO RUGGIERO (Persona)
• Roberto Russo (Unità di personale esterno)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Surface & coatings technology (Rivista)