http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID151779
Metodo per proteggere la superficie del 4H-SiC durante processi termici ad alta temperatura (Risultati di valorizzazione applicativa)
- Type
- Label
- Metodo per proteggere la superficie del 4H-SiC durante processi termici ad alta temperatura (Risultati di valorizzazione applicativa) (literal)
- Anno
- 2010-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
- Alternative label
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
- F. Roccaforte, S. Di Franco, V. Raineri (literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#altreInformazioni
- Il processo è partcolarmente efficace perché i metodi proposti in letteratura non considerano l'aspetto delle proprietà elettriche di superficie che vengono compromesse. (literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#proprieta
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#riferimentiUtilizzatori
- Il processo è stato trasferito ad STMicroelectronics nell'ambito di un contratto di ricerca. (literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni
- CNR-IMM Catania Italy (literal)
- Titolo
- Metodo per proteggere la superficie del 4H-SiC durante processi termici ad alta temperatura (literal)
- Descrizione sintetica
- Il processo include un metodo per la formazione di uno strato protettivo sulla superficie del SiC compatibile con i processi standard e della sua rimozione senza alterare le caratteristiche elettriche della superficie. (literal)
- Prodotto di
- Autore CNR
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