Procedimento e sistema per la fabbricazione di nanostrutture e nanodispositivi tramite proiezione di materiale in forma atomica o molecolare da sorgente sagomata attraverso un diaframma con aperture di dimensioni nanometriche (Brevetto)

Type

• Brevetto (Classe)
• Brevetto (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Procedimento e sistema per la fabbricazione di nanostrutture e nanodispositivi tramite proiezione di materiale in forma atomica o molecolare da sorgente sagomata attraverso un diaframma con aperture di dimensioni nanometriche (Brevetto) (literal)

Anno

• 2008-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• M. TORMEN, R. GOTTER, M. PRASCIOLU (2008)
  Procedimento e sistema per la fabbricazione di nanostrutture e nanodispositivi tramite proiezione di materiale in forma atomica o molecolare da sorgente sagomata attraverso un diaframma con aperture di dimensioni nanometriche
  
  (literal)

Titolo

• Procedimento e sistema per la fabbricazione di nanostrutture e nanodispositivi tramite proiezione di materiale in forma atomica o molecolare da sorgente sagomata attraverso un diaframma con aperture di dimensioni nanometriche (literal)

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• M. TORMEN, R. GOTTER, M. PRASCIOLU (literal)

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• International patent filing PCT/IB2009/051995 filed on May 14th, 2009 (literal)

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• CNR (literal)

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• Nazionale (literal)

Numero brevetto

• TO2008A000358 (literal)

Anno di deposito

• 2008 (literal)

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• CNR-INFM Laboratorio Nazionale TASC (literal)

Titolo

• Procedimento e sistema per la fabbricazione di nanostrutture e nanodispositivi tramite proiezione di materiale in forma atomica o molecolare da sorgente sagomata attraverso un diaframma con aperture di dimensioni nanometriche (literal)

Abstract

• A method and a system for manifacturing two-dimensional and three-dimensional nanostructures and nanodevices are described, wherein the formation of nanostructure (of the nanodevice) on a target substrate is made, at a millimetric or super-millimetric distance from the substrate, by the deposition of material emitted in the form of an atomic/molecular beam having a selected pattern corresponding, at an enlarged scale, to the desired pattern of the nanostructure (nanodevice). The projection of the patterned bean through a diaphragm, associated with the substrate at a micrometric of sub-micrometic distance, and having at least one pinhole aperture of nanometric size, brings about the formation of a reversed image of the emission pattern at a reduced scale of the substrate. (literal)

Prodotto di

• Proprieta' elettroniche e strutturali di sistemi a bassa dimensionalita' (MD.P06.016.001) (Modulo)
• Nanofabbricazione (MD.P06.017.001) (Modulo)

Autore CNR

• MAURO PRASCIOLU (Unità di personale esterno)
• MASSIMO TORMEN (Unità di personale interno)
• ROBERTO GOTTER (Unità di personale interno)

Incoming links:

Autore CNR di

• MASSIMO TORMEN (Unità di personale interno)
• ROBERTO GOTTER (Unità di personale interno)
• MAURO PRASCIOLU (Unità di personale esterno)

Prodotto

• Nanofabbricazione (MD.P06.017.001) (Modulo)
• Proprieta' elettroniche e strutturali di sistemi a bassa dimensionalita' (MD.P06.016.001) (Modulo)