Use of TOPXD for advanced users (Comunicazione a convegno)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Comunicazione a convegno (Classe)

Label

• Use of TOPXD for advanced users (Comunicazione a convegno) (literal)

Anno

• 2003-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• Gatti, C.; Volkov, A. (2003)
  Use of TOPXD for advanced users
  in Workshop on X-ray Charge Density Analysis and the XD Programming package, Buffalo, NY, USA, 13-17 May 2003
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Gatti, C.; Volkov, A. (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#note

• invited tutorial (30’) (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• CNR-ISTM, via Golgi 19, 20133 Milano, Italy Dept Chemistry, University of New York at Buffalo, NY, USA (literal)

Titolo

• Use of TOPXD for advanced users (literal)

Prodotto di

• Institute of molecular science and technologies (ISTM) (Istituto)
• Nanoingegneria chimica ab-initio: struttura, legame e proprieta' di materiali di interesse tecnologico e dinamica di nanosistemi per il controllo della loro reattivita' chimica (PM.P07.002.003) (Modulo)

Autore CNR

• CARLO EDOARDO GATTI (Persona)

Incoming links:

Prodotto

• Institute of molecular science and technologies (ISTM) (Istituto)
• Nanoingegneria chimica ab-initio: struttura, legame e proprieta' di materiali di interesse tecnologico e dinamica di nanosistemi per il controllo della loro reattivita' chimica (PM.P07.002.003) (Modulo)

Autore CNR di

• CARLO EDOARDO GATTI (Persona)