Litografia elettronica, nano-patterning, MEMS e NEMS su 3C-SiC (MD.P05.009.002)

Type
Label
  • Litografia elettronica, nano-patterning, MEMS e NEMS su 3C-SiC (MD.P05.009.002) (literal)
Prodotto
Codice
  • MD.P05.009.002 (literal)
Anno di chiusura previsto
  • 2012-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Istituto esecutore
Abstract
  • L'attività che verrà svolta nel presente modulo giocherà un ruolo fondamentale nell'utilizzo dei vari aspetti del carburo di silicio 3C per lo sviluppo di innovativi sistemi MEMS e NEMS. l'attività del modulo ha lo scopo di studiare le proprietà meccaniche di MEMS e NEMS in SiC-3C e le proprietà di trasduzione elettrica corrispondenti ed in particolare la trasduzione piezoresistiva. Verranno realizzate attraverso litografia a Fascio Elettronico e erosioni assistite da Plasma strutture micro e nanometriche. Tali strutture verranno analizzate non solo da punto di vista meccanico, frequenze di risonanza modulo di Young, ma anche come sistemi di trasduzione. Nell'ambito del modulo inoltre verranno fabbricate sulla superficie di wafers di Silicio strutture regolari nanometriche e submicrometriche che favoriscano la riduzione dei difetti nella fase di crescita dei film SiC-3C. (literal)
Nome
  • Litografia elettronica, nano-patterning, MEMS e NEMS su 3C-SiC (literal)
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