Nuovi Dispositivi di Silicio Oltre il CMOS Scaling (MD.P05.023.001)
- Type
- Modulo (Classe)
- Label
- Nuovi Dispositivi di Silicio Oltre il CMOS Scaling (MD.P05.023.001) (literal)
- Prodotto
- Fluorine in Ge: Segregation and EOR-defects stabilization (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Radiation Effects on Programmed NROM Cells (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Tuning the Crystallization Temperature of Amorphous Ge2Sb2Te5 by O and Si Recoil Implantation (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Role of the Support and the Ru Precursor on the Performance of Ru/Carbon Catalysts Towards H-2 Production Through NaBH4 Hydrolysis (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Formation of nanoparticles from laser irradiated Au thin film on SiO2/Si: Elucidating the Rayleigh-instability role (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Threshold Voltage Variability of NROM Memories After Exposure to Ionizing Radiation (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Impact of transparent conductive oxide on the admittance of thin film solar cells (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Novel approach to the fabrication of Au/silica core-shell nanostructures based on nanosecond laser irradiation of thin Au films on Si (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Heteroepitaxial Growth of Ge Nanowires on Si Substrates (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Crystallization of Nanometer Ge2Sb2Te5 Amorphous Regions Embedded in the Hexagonal Close Packed Structure (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Crystallization of Ion Amorphized Ge2Sb2Te5 Thin Films in Presence of Cubic or Hexagonal Phase (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Morphological and Electrical Characterization of Electrically Trimmable Thin-Film Resistors (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Fiber texturing in nano-crystalline TiO2 thin films deposited at 150 degrees C by dc-reactive sputtering on fiber-textured [0001] ZnO:Al substrates (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Hybrid silicon nanocrystals/SiN charge trapping layer with high-k dielectrics for FN and CHE programming (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Radiation effects in nitride read-only memories (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Radiation Tolerance of NROM Embedded Products (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Ag-Assisted Chemical Etching of (100) and (111) n-Type Silicon Substrates by Varying the Amount of Deposited Metal (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Dark Current in Silicon Photomultiplier Pixels: Data and Model (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Amorphous-Crystal Phase Transitions in GexTe1-x Alloys (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Homogeneity of Ge-rich nanostructures as characterized by chemical etching and transmission electron microscopy (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Multiple gate NVM cells with improved Fowler-Nordheim tunneling program and erase performances (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Carrier transport mechanism in the SnO(2):F/p-type a-Si:H heterojunction (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Fabrication and Characterization of Catalyzed and Metal-free Low-temperature Si Nanowires for Flexible Devices and Photovoltaic Solar Cells (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Compact instrumentation for radiation tolerance test of flash memories in space environment (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Correlation between leakage current and ion-irradiation induced defects in 4H-SiC Schottky diodes (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Room temperature defect diffusion in ion implanted c-Si (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Stress fields analysis in 3C-SiC free-standing microstructures by micro-Raman spectroscopy (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- From Atomistic to Device Level Investigation of Hybrid Redox Molecular/Silicon Field-Effect Memory Devices (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Solar panel having two monolithical multicell photovoltaic modules of different fabrication technology (Brevetto) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1601)
- Ionizing radiation effects on Non Volatile Read Only Memory cells (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Nucleation and grain growth in as deposited and ion implanted GeTe thin films (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Codice
- MD.P05.023.001 (literal)
- Anno di chiusura previsto
- 2018-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
- Istituto esecutore
- Abstract
- L'attività riguarda principalmente lo studio di meccanismi fisici di funzionamento di dispositivi innovativi di silicio per fotovoltaico, transistor di potenza, e memorie non volatili embedded. In alcuni casi il loro funzionamento sarà valutato anche per quanto concerne la radiation hardness. Lo studio sarà orientato solo a specifici dispositivi quali: nuove tecnologie per celle fotovoltaiche di silicio e silicio amorfo idrogenato, con particolare attenzione all'uso di eterogiunzioni nanostrutture di silicio, e strutture platoniche; Saranno studiate applicazioni di queste tecnologie al campo del water splitting / elettrolisi; studio di tecniche di analisi ottiche di calcoli renali basate su tecniche di spettroscopia ottica; affidabilità di dielettrici di gate per transistor di potenza innovativi in SiC o in Si con nuove architetture; memorie non volatili a semiconduttore di tipo resistive switching. Le attività suddette verranno effettuate da personale CNR e con l'ausilio di personale esterno. (literal)
- Nome
- Nuovi Dispositivi di Silicio Oltre il CMOS Scaling (literal)
- Descrizione
- Descrizione collaborazioni del modulo "Nuovi Dispositivi di Silicio Oltre il CMOS Scaling (MD.P05.023.001)" (Descrizione collaborazioni)
- Descrizione del modulo "Nuovi Dispositivi di Silicio Oltre il CMOS Scaling (MD.P05.023.001)" (Descrizione modulo)
- Descrizione dello stato di avanzamento delle attività del modulo "Nuovi Dispositivi di Silicio Oltre il CMOS Scaling (MD.P05.023.001)" (Descrizione stato avanzamento attività)
- Modulo di
- Gestore
- SALVATORE LOMBARDO (Persona)
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- Fiber texturing in nano-crystalline TiO2 thin films deposited at 150 degrees C by dc-reactive sputtering on fiber-textured [0001] ZnO:Al substrates (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
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- http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID219094
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- http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID219112
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- http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID219166
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- http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID36172
- http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID36179
- http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID227704
- http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID227719
- Istituto esecutore di
- Modulo
- Gestore di
- SALVATORE LOMBARDO (Persona)
- Descrizione di
- Descrizione dello stato di avanzamento delle attività del modulo "Nuovi Dispositivi di Silicio Oltre il CMOS Scaling (MD.P05.023.001)" (Descrizione stato avanzamento attività)
- Descrizione del modulo "Nuovi Dispositivi di Silicio Oltre il CMOS Scaling (MD.P05.023.001)" (Descrizione modulo)
- Descrizione collaborazioni del modulo "Nuovi Dispositivi di Silicio Oltre il CMOS Scaling (MD.P05.023.001)" (Descrizione collaborazioni)