Materiali e processi avanzati per celle fotovoltaiche (MD.P05.005.004)
- Type
- Modulo (Classe)
- Label
- Materiali e processi avanzati per celle fotovoltaiche (MD.P05.005.004) (literal)
- Prodotto
- Crystallization of implanted amorphous silicon during millisecond annealing by infrared laser irradiation (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Boron electrical activation in crystalline Si after millisecond nonmelting laser irradiation (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Light scattering calculations from Au and Au/SiO2 core/shell nanoparticles (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Low-temperature SiGe PECVD epitaxy: From wafer equivalent to ultra-thin crystalline solar cells on inexpensive substrates (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Kinetic Monte Carlo simulation of dopant-defect systems under submicrosecond laser thermal processes (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- In-situ spectroscopic ellipsometry of microcrystalline silicon deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition on flexible Fe-Ni alloy substrate for photovoltaic applications (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Silicon epitaxy below 200°C: Towards thin crystalline solar cells (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1305)
- Anomalous transport of Sb in laser irradiated Ge (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Crystallization of amorphous Silicon by infrared laser irradiation (Comunicazione a convegno) (Prodotto della ricerca)
- Quantum transport modeling of defected graphene nanoribbons (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Tailored Voltage deposition of µc-Si1-xCx:H from H2 diluted SiH4 and CH4 gas mixtures (Comunicazione a convegno) (Prodotto della ricerca)
- Strain release in low temperature RF-PECVD epitaxial growth (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Crystallization by furnace annealing and laser annealing of highly dose Arsenic implanted amorphous Silicon (Comunicazione a convegno) (Prodotto della ricerca)
- Nano-crystalline Si formed by infrared laser irradiation of CVD deposited a-Si:H (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- Low temperature epitaxial growth of SiGe absorber for thin film heterojunction solar cells (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Use of radio frequency power, silicon tetrafuoride and methane as parameters to tune structural properties of hydrogenated microcrystalline silicon carbon alloys (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Fiber texturing in nano-crystalline TiO2 thin films deposited at 150 degrees C by dc-reactive sputtering on fiber-textured [0001] ZnO:Al substrates (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Role of the Ge surface during the end of range dissolution (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Electronic transport signatures of common defects in irradiated graphene-based systems (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Enthalpy based modeling of pulsed excimer laser annealing for process simulation (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Luminescence properties of SiOxNy irradiated by IR laser 808 nm: The role of Si quantum dots and Si chemical environment (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Dye-Sensitizing of Self-Nanostructured Ti(:Zn)O(2)/AZO Transparent Electrodes by Self-Assembly of 5,10,15,20-Tetrakis(4-carboxyphenyl)porphyrin (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Structural, chemical and optical properties of amorphous SiOxNy layers irradiated by CW IR laser (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- Luminescence properties of SiOxNy irradiated by IR laser 808nm: the role of Si quantum dots and Si chemical environment (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- Structural and photoluminescence properties of SiOxNy irradiated by CW laser IR (Abstract/Poster in convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1304)
- Kinetic Monte Carlo simulations for transient thermal fields: Computational methodology and application to the submicrosecond laser processes in implanted silicon (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Crystallization of Deposited Amorphous Silicon by Infrared Laser Irradiation (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Electrical Properties of Ultrathin SiO2 Layer Deposited at 50 degrees C by Inductively Coupled Plasma-Enahnced Chemical Vapor Deposition (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Consideration on the thermal expansion of 3C-SiC epitaxial layer on Si substrates (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Structural properties of pulsed laser deposited SnO(x) thin films (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- CdSe Spherical Quantum Dots Stabilised by Thiomalic Acid: Biphasic Wet Synthesis and Characterisation (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Raman and photoluminescence spectroscopy of Si nanocrystals: Evidence of a form factor (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Synthesis of crystalline Si quantum dots by millisecond laser irradiation of SiOxNy layers (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Codice
- MD.P05.005.004 (literal)
- Anno di chiusura previsto
- 2014-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
- Istituto esecutore
- Abstract
- L'obiettivo del gruppo è lo studio di nuovi materiali necessari per incrementare l'efficienza di conversione della luce in celle fotovoltaiche e di realizzare celle fotovoltaiche su substrati a basso costo per una semplice e vasta integrazione. Allo scopo saranno sintetizzati materiali nano strutturati a base di Si. L'obiettivo sarà perseguito mediante approcci innovativi basati, da una parte, su deposizioni di Si anche a T<100°C e, dall'altra, su processi termici di pochi ms mediante irraggiamento laser. I materiali saranno caratterizzati con tecniche d'indagine avanzata quali la diffrazione e riflessione di raggi X e la microscopia elettronica in trasmissione, ed in scansione, misure Raman ed ellissometria spettroscopica. Verranno anche realizzati prototipi di celle a base di Si sia su silicio con strutture ad eterogiunzione sia su vetro nella classica configurazione p-i-n. (literal)
- Nome
- Materiali e processi avanzati per celle fotovoltaiche (literal)
- Descrizione
- Descrizione collaborazioni del modulo "Materiali e processi avanzati per celle fotovoltaiche (MD.P05.005.004)" (Descrizione collaborazioni)
- Descrizione del modulo "Materiali e processi avanzati per celle fotovoltaiche (MD.P05.005.004)" (Descrizione modulo)
- Descrizione dello stato di avanzamento delle attività del modulo "Materiali e processi avanzati per celle fotovoltaiche (MD.P05.005.004)" (Descrizione stato avanzamento attività)
- Modulo di
- Gestore
- GIOVANNI MANNINO (Unità di personale interno)
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- Istituto esecutore di
- Modulo
- Descrizione di
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- Prodotto di
- Crystallization of implanted amorphous silicon during millisecond annealing by infrared laser irradiation (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Synthesis of crystalline Si quantum dots by millisecond laser irradiation of SiOxNy layers (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Dye-Sensitizing of Self-Nanostructured Ti(:Zn)O(2)/AZO Transparent Electrodes by Self-Assembly of 5,10,15,20-Tetrakis(4-carboxyphenyl)porphyrin (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Crystallization of Deposited Amorphous Silicon by Infrared Laser Irradiation (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
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- CdSe Spherical Quantum Dots Stabilised by Thiomalic Acid: Biphasic Wet Synthesis and Characterisation (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Boron electrical activation in crystalline Si after millisecond nonmelting laser irradiation (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
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- Role of the Ge surface during the end of range dissolution (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
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- Electronic transport signatures of common defects in irradiated graphene-based systems (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Luminescence properties of SiOxNy irradiated by IR laser 808 nm: The role of Si quantum dots and Si chemical environment (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Consideration on the thermal expansion of 3C-SiC epitaxial layer on Si substrates (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
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- Low temperature epitaxial growth of SiGe absorber for thin film heterojunction solar cells (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Use of radio frequency power, silicon tetrafuoride and methane as parameters to tune structural properties of hydrogenated microcrystalline silicon carbon alloys (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Low-temperature SiGe PECVD epitaxy: From wafer equivalent to ultra-thin crystalline solar cells on inexpensive substrates (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Silicon epitaxy below 200°C: Towards thin crystalline solar cells (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1305)
- Tailored Voltage deposition of µc-Si1-xCx:H from H2 diluted SiH4 and CH4 gas mixtures (Comunicazione a convegno) (Prodotto della ricerca)
- Strain release in low temperature RF-PECVD epitaxial growth (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Crystallization by furnace annealing and laser annealing of highly dose Arsenic implanted amorphous Silicon (Comunicazione a convegno) (Prodotto della ricerca)
- Nano-crystalline Si formed by infrared laser irradiation of CVD deposited a-Si:H (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- In-situ spectroscopic ellipsometry of microcrystalline silicon deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition on flexible Fe-Ni alloy substrate for photovoltaic applications (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Crystallization of amorphous Silicon by infrared laser irradiation (Comunicazione a convegno) (Prodotto della ricerca)
- Structural, chemical and optical properties of amorphous SiOxNy layers irradiated by CW IR laser (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- Luminescence properties of SiOxNy irradiated by IR laser 808nm: the role of Si quantum dots and Si chemical environment (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
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