Nanostrutture definite per auto-assemblamento (MD.P05.008.003)

Type
Label
  • Nanostrutture definite per auto-assemblamento (MD.P05.008.003) (literal)
Prodotto
Codice
  • MD.P05.008.003 (literal)
Anno di chiusura previsto
  • 2008-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Istituto esecutore
Abstract
  • L'attività all'interno del modulo sarà focalizzata sulla formazione di nanomaschere litografiche, basate su autoassemblamento di copolimeri. Verrà anche studiata e modellizzata la termodinamica del processo di autoassemblamento, su vari substrati (planari e non) per la formazione di nanostrutture tridimensionali e fili quantici. Il processo di trasferimento della maschera su substrato di ossido verrà ottimizzato, tramite utilizzo di attacchi reattivi con plasma a varie densità. La tecnologia verrà applicata a leghe silicio-germanio (collaborazione UniCt), strati di calcogenuri (La Fata - IMM), e DNA (Libertino - IMM). (literal)
Nome
  • Nanostrutture definite per auto-assemblamento (literal)
Descrizione
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