Micro e nanolavorazioni per dispositivi fotonici (MD.P03.013.002)

Type
Label
  • Micro e nanolavorazioni per dispositivi fotonici (MD.P03.013.002) (literal)
Prodotto
Codice
  • MD.P03.013.002 (literal)
Anno di chiusura previsto
  • 2008-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Istituto esecutore
Primo anno di attività
  • 2006-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Abstract
  • La collaborazione con la sez. di Milano dell'IFN riguarda la fabbricazione di dispositivi ottici, quali guide d'onda e cristalli fotonici.Per la realizzazione di guide d'onda, l'attività consiste nel disegno di maschere mediante CAD e nella realizzazione delle stesse mediante litografia elettronica, nell'utilizzo di tali maschere in processi di litografia ottica, per la definizione su strati protettivi metallici, di aperture attraverso le quali vengono poi realizzate le guide nel substrato di vetro.Per quanto riguarda l'attività di fabbricazione dei cristalli fotonici, la realizzazione del cristallo fotonico, lineare o bidimensionale, su substrati di vetro o SOI, consiste, in primis, nella definizione della struttura periodica mediante nanolitografia, e quindi richiede l'utilizzo di litografia a fascio elettronico; successivamente il pattern viene trasferito nel substrato mediante Reactive Ion Etching, con il requisito che l'attacco sia selettivo e anisotropo, ovvero lo strato mascherante in cui è stato definito il pattern non venga danneggiato durante l'attacco del substrato, e le pareti delle strutture scavate siano verticali. (literal)
Nome
  • Micro e nanolavorazioni per dispositivi fotonici (literal)
Descrizione
Modulo di
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