Progettazione di Nuovi Precursori Molecolari per Nanosistemi e Ottimizzazione del Processo MOCVD per la Fabbricazione e/o Modifica delle Funzionalità delle Superfici (PM.P05.001.001)

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  • Progettazione di Nuovi Precursori Molecolari per Nanosistemi e Ottimizzazione del Processo MOCVD per la Fabbricazione e/o Modifica delle Funzionalità delle Superfici (PM.P05.001.001) (literal)
Prodotto
Codice
  • PM.P05.001.001 (literal)
Anno di chiusura previsto
  • 2014-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Istituto esecutore
Primo anno di attività
  • 2005-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Abstract
  • L'attività è dedicata all'ottimizzazione di tecnologie da fase vapore per la deposizione di film sottili nanostrutturati e la preparazione di polveri funzionalizzate. L'attenzione è principalmente rivolta alla crescita di materiali ossidici e loro caratterizzazione composizionale, strutturale e funzionale con l'obiettivo di produrre rivestimenti polifunzionali con particolari proprietà meccaniche, elettriche, catalitiche e di bio-compatibilità. L'estendibilità dei processi considerati e le caratteristiche dei materiali ottenuti dipendono fortemente dalla scelta e/o disponibilità del precursore, pertanto particolare attenzione è rivolta alla progettazione e sintesi di composti di coordinazione e organometallici con proprietà adatte per un loro impiego come precursori per i vari processi MOCVD e ALD di produzione di film e polveri. L'interesse scientifico e tecnologico nella MOCVD sta continuando a crescere rapidamente in quanto la tecnica permette di controllare la deposizione su scala nanometrica e in particolare con la sua variante ALD si è in grado di sintetizzare materiali con accurato controllo atomico. (literal)
Nome
  • Progettazione di Nuovi Precursori Molecolari per Nanosistemi e Ottimizzazione del Processo MOCVD per la Fabbricazione e/o Modifica delle Funzionalità delle Superfici (literal)
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