Keywords of "J-V characteristics of Al+ ion implanted p(+)/n 4H-SiC diodes annealed in silane ambient at 1600 degrees C"
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- J-V characteristics of Al+ ion implanted p(+)/n 4H-SiC diodes annealed in silane ambient at 1600 degrees C (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
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- silicon carbide (Parola chiave)
- ion implantation (Parola chiave)
- silane (Parola chiave)
- CARBIDE (Parola chiave)
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- ALUMINUM (Parola chiave)
- p(+)/n junction diode (Parola chiave)
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- ion implantation (Parola chiave)
- ACTIVATION (Parola chiave)
- silicon carbide (Parola chiave)
- annealing (Parola chiave)
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- ALUMINUM (Parola chiave)
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