Progettazione e modifica su base molecolare di film e di interfacce - Dalla tecnica CVD alla tecnica ALD: Messa a punto e ottimizzazione del processo Atomic Layer Deposition per la sintesi di films nanostrutturati con funzionalità meccaniche ed elettrich?????????????????1?????????Uñ7???ˆJUñ7???????????????????0???????Q???????????=???????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????ol??????=???soctcp???????????????????????????????????????????????????????????????????? (PM.P05.008)

Type
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  • Progettazione e modifica su base molecolare di film e di interfacce - Dalla tecnica CVD alla tecnica ALD: Messa a punto e ottimizzazione del processo Atomic Layer Deposition per la sintesi di films nanostrutturati con funzionalità meccaniche ed elettrich?????????????????1?????????Uñ7???ˆJUñ7???????????????????0???????Q???????????=???????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????ol??????=???soctcp???????????????????????????????????????????????????????????????????? (PM.P05.008) (literal)
Modulo
Progetto
Codice
  • PM.P05.008 (literal)
Anno di chiusura previsto
  • 2005-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Dipartimento
Istituto esecutore
Primo anno di attività
  • 2005-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Abstract
  • L’attività riguarda l’individuazione, lo studio e la verifica delle caratteristiche di precursori da utilizzare nel processo ALD per la deposizione di materiali nanostrutturati, superreticoli e nanocompositi adatti all’impiego come rivestimenti protettivi contro la corrosione e l’usura in ambienti gravosi. E’ inoltre rivolta alla progettazione e realizzazione di un reattore ALD versatile adatto alla deposizione di diversi materiali e in grado di operare con differenti precursori che possono presentare un ampio spettro di proprietà chimico-fisiche. In particolare si sta realizzando una camera di reazione e un sistema di controllo e di distribuzione dei precursori che prevede sia l’utilizzo di composti particolarmente reattivi in condizioni aerobiche e dotati di bassa volatilità, sia il controllo in camera dello spessore di strutture a superreticolo. Infine è prevista la validazione dei materiali ottenuti e caratterizzazione della loro funzionalità attraverso determinazione delle proprietà nanomeccaniche mediante nanoindentazione. (literal)
Nome
  • Progettazione e modifica su base molecolare di film e di interfacce - Dalla tecnica CVD alla tecnica ALD: Messa a punto e ottimizzazione del processo Atomic Layer Deposition per la sintesi di films nanostrutturati con funzionalità meccaniche ed elettrich?????????????????A???????`¿??????€¢?????? ???????commesse:annoDiChiusuraPrevisto?A??????? Ã??????/?????? ???????/^\{php\:([a-zA-Z\_][\_a@???????@???????@#?????0%?????????????¸Í??????????????????????????????A???????ð$?????04?????????????????ÿ????????? (literal)
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